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大棚春黄瓜“高密稀落”栽培技术

来源：作者：发布时间：2013-07-27 11:40

大棚春茬黄瓜，因产量高，效益好，种植面积较大。但生产中，因黄瓜植株生长量大，常造成前期苗小、苗稀闲置土地，后期植株枝繁叶茂，使田间通风透光不良，造成了植株徒长、早衰，产生大量化瓜而减产。为解决这一难题，笔者采取了高、密、稀、落的栽培方法，较好的解决了这一问题。具体的栽培技术介绍如下：

　　1、高畦整地。采取高畦覆膜整地措施。整地前，每亩施优质农家肥5吨，二铵15-20千克，碳酸钾100千克，作130厘米畦，其中畦面宽80厘米，畦沟上宽50厘米，下宽25厘米，畦高25-30厘米，畦上设1个上宽30厘米、下宽15厘米、深8-15厘米的暗灌沟，畦上覆地膜增温、降温、保墒。

　　2、合理密植。在覆好地膜的高畦上，暗灌沟两侧按15-20厘米株距定植，亩保苗5000-6700株。这是提高早期产量，增加总产量的关键技术措施。

　　3、疏苗稀植。⑴引蔓上架：可采用撕裂膜吊蔓上架，撕裂膜上端出30-50厘米，以备后期落蔓用。上架方法是连续上架2株留1株不上架，再上架2株留1株。⑵摘心疏苗；对不上架植株，在长有10-12片叶时摘心，促其结瓜。此株可结瓜4-5条，全部是早期产量，可提高早期产量50%以上，摘瓜后拔秧。待上架植株长至120-150厘米高时，根据市场行情，将其中1株摘心，促其结瓜上市，稳定中期产量，结瓜后拉秧。经过2次疏苗，保留株距可达45-60厘米，增强了田间通风透光能力，抑制了病虫害的发生。

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　　4、落蔓管理。黄瓜生长中后期，受病虫等多种因素影响，植株下部叶片黄化，失去光合能力，出现无瓜区。植株上部顶棚。为使植株能继续生长结瓜，采取落蔓，即将植株整体下落，让植株上部有一个伸展空间继续生长结瓜，将下部无瓜光秃区盘压在根部周围。落蔓时，使植株保持12-15片功能叶片，同时使蔓距棚膜保持40厘米左右，此法能有效地延长黄瓜生育期，黄瓜的总产量可提高30%以上。

　　5、水肥管理。灌水施肥均在畦上膜下暗灌沟内进行。此法能有效降低棚内空气湿度，抑制病害发生。追肥以腐熟稀大粪或稀饼肥水为主，配合化肥，结合浇水，随水施入。其他管理，如育苗、整枝打杈、病虫害防治等项管理，均与常规栽培相同。病虫防治坚持生物防治、物理防治为主，化学防治为辅的原则。药剂防治以粉尘法代替喷雾法，做到勤观察，早发现，早用药，及时防病治病。（记者佚名）

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